采用背景系数法光谱测定地化样品中的As、Sb——流动注射—氢化物发生—电感耦合等离子体原子发射光谱测定法 |
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引用本文: | 吴蓉,高汉山,黄剑惠.采用背景系数法光谱测定地化样品中的As、Sb——流动注射—氢化物发生—电感耦合等离子体原子发射光谱测定法[J].矿产与地质,1991(6). |
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作者姓名: | 吴蓉 高汉山 黄剑惠 |
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作者单位: | 中国有色金属工业总公司矿产地质研究院
(吴蓉,高汉山),中国有色金属工业总公司矿产地质研究院(黄剑惠) |
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摘 要: | 流动流射(FIA)—氢化物发生(HC)—等离子体发射光谱(ICP/AES)测定地质物料中的A_s和Sb的方法,是以金通道作为背景通道,用FIA-HG-ICP/AES背景系数法来测定.主要讨论了选用金通道作为背景通道时与各实验条件之间的关系;从实验中求出背景系数以及将背景系数用于各类矿样分析时结果的可靠性.
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