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| X射线荧光痕量分析中的背景问题 | |
| 引用本文： | 梁国立,王毅民.X射线荧光痕量分析中的背景问题[J].岩矿测试,1984(3):262-265. |
| 作者姓名： | 梁国立 王毅民 |
| 作者单位： | 地质矿产部岩矿部测试技术研究所 (梁国立)，地质矿产部岩矿部测试技术研究所(王毅民) |
| 摘 要： | X射线荧光分析中最基本的测量是X荧光辐射的强度。在元素分析线角度处测得的强度并不都是样品中该元素的贡献,除元素分析线的强度(净强度)之外的计数统称为背景。 在痕量分析中,背景在分析线强度中占有很大比例。尤其是在检出限附近,背景强度接近于分析线强度。这时背景的测量、校正和扣除等,就成为影响分析结果的重要因 |
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